合光光掩模科技（安徽）有限公司成立于2023年4月，坐落于“大湖名城，創新高地”安徽省省會合肥市新橋科創示范區，注冊資本14.33億元。公司擬投資50.1億元建立光掩模生產基地，占地面積49.5畝，總面積約3萬平方米，作為一家國內獨立的高端光掩模生產制造商，公司主要從事掩模板的研發、設計、生產和銷售業務。

本項目是為合光光掩模科技（安徽）有限公司12英寸半導體制造工藝提供超純水解決方案。通過集成應用M/CF預處理、反滲透（RO）、電去離子（EDI）以及PMB等核心工藝技術，構建了一套高效的超純水制備系統。該系統可有效滿足客戶生產線對于超純水質量及供應穩定性的嚴格要求，為客戶的半導體制造流程提供可靠的水質保障。